电子半导体行业对纯水的电阻率有何具体要求？

         一般来说，在大规模集成电路的生产中，要求纯水的电阻率达到 18.2 MΩ·cm 及以上。在一些更为先进和高精度的半导体制造工艺中，甚至要求电阻率超过 18.2 MΩ·cm ，可能需要接近理论极限的超高纯度水。

   例如，在芯片制造的光刻工艺中，微小的杂质和离子都可能导致电路缺陷，因此需要电阻率极高的纯水来确保生产的精度和良率。在半导体清洗过程中，低电阻率的水可能会留下污染物，影响器件性能。